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- [发明专利]一种石墨单层片溶液及其制备方法-CN201010542472.1无效
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韩宝航;周鼎;承倩怡
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国家纳米科学中心
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2010-11-11
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2012-05-23
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C01B31/04
- 本发明的石墨单层片溶液含有有机溶剂和石墨单层片,所述有机溶剂为酰胺溶剂和/或烷酮溶剂,所述石墨单层片的浓度为0.06-0.6mg/mL。本发明的制备石墨单层片溶液的方法包括,在密闭条件下,将浓度为0.1-1mg/mL的石墨单层片氧化物有机相溶液在90-200℃下加热2-12小时,进行热处理。本发明的石墨单层片溶液中的石墨单层片的浓度大于0.06mg/mL,较现有技术中的不加入稳定剂获得石墨单层片溶液的浓度大大提高。本发明的方法通过采用酰胺和/或烷酮溶剂作为有机溶剂,在还原石墨单层片氧化物的有机相溶液的过程中不需要额外引入还原剂或稳定剂分子即可获得石墨单层片溶液,在石墨单层片材料和器件领域具有广泛应用前景。
- 一种石墨单层溶液及其制备方法
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